Espectrofotómetro de absorción atómica
NANBEI es profesional en proporcionar una solución de un solo paso de instrumentos y equipos de laboratorio
Marca:NANBEI
Modelo:
Solicitud:
La cámara del horno de grafito ayuda a los usuarios a ubicar la sonda de inyección, ver el estado de las muestras en los tubos de grafito y optimizar la programación de la temperatura del horno.
El modo de ahorro de gas del horno de grafito prolonga el tiempo de uso del gas de protección y, por lo tanto, reduce el costo operativo del instrumento.
El doble camino interior del gas del horno de grafito permite un gas auxiliar además del gas de protección para mejorar el proceso de incineración y obtener mejores resultados.
La torreta de 6 lámparas codificadas puede identificar automáticamente el elemento de la lámpara y registrar los tiempos de uso de la lámpara del elemento.
El mecanismo de ajuste fino de la lámpara de deuterio garantiza una superposición perfecta de las posiciones de la lámpara de deuterio y la lámpara de elemento.
La función de análisis de elementos múltiples y el muestreador automático de horno de grafito/llama AS-600 están equipados para realizar un análisis completamente automatizado de elementos múltiples
1. Sistema Óptico
a) Rango de longitud de onda: 190nm~900nm
b) Ancho de banda: 0.1, 0.2, 0.4, 1.0 y 2.0nm, interruptor de hendidura automático
c) Mono-Chromator: Mono-Chromator de rejilla C-T
d) Precisión/error de longitud de onda: ±0.1nm
e) Repetibilidad de longitud de onda: ≤0.05nm
f) Rejilla óptica: 1800 líneas/mm
g) Longitud de onda del resplandor: 250nm
h) Estabilidad de la línea base: línea base de estado estático≤0.002A/30min, línea base dinámica≤0.003A/30min
i) Resolución: mejor que 0.1nm
2. Método de llama
a) Concentración característica: ≤0,02 μg/mL/1% (Cu)
b) Límite de detección: ≤0,003 μg/ml
c) RSD≤0.45%
d) Cabezal de quemador: cabezal de quemador de titanio completo intercambiable de 50 mm y 100 mm
y nebulizador de titanio completo.
e) Ajuste de posición: regulable en altura y ángulos. El método de llama/hidruro se puede cambiar en 1 minuto.
3. Método de horno de grafito
a) Concentración característica: ≤0,3×10-12g (Cd)
b) Límite de detección: ≤0.2×10-12g
c) RSD≤1.8%
d) Programa de control de temperatura: Max 20 rampa de programación de aumento de temperatura en modo de paso, pendiente o plano.
e) Aumento de temperatura por potencia o control óptico
f) Tasa de aumento de temperatura: ≥2000 ℃/s por potencia, ≥3000 ℃/s por control óptico.
4. Calibración de fondo
a) Tanto el método de la llama como el del horno pueden ejecutar una calibración de fondo. b) Fondo: lámpara de deuterio, autoabsorción (opcional)
c) Capacidad de calibración: AAS tiene la capacidad de calibración de más de 60 veces cuando el valor de absorción de fondo está cerca de 1.0Abs
5. Tratamiento de datos
a) Métodos de medida: absorción de llama, emisión de llama, horno de grafito e hidruro.
b) Métodos de análisis: ecuación lineal, ecuación no lineal, estándar añadido.
c) Salida de impresión: la curva de calibración, el espectrograma de señal, las condiciones del instrumento, los parámetros de análisis y los resultados del análisis se pueden guardar e imprimir automáticamente.
6. Especificaciones
a) Dimensiones: 890 mm (largo) × 567 mm (ancho) × 490 mm (alto), 125 kg
b) Potencia: 220V 50Hz potencia monofásica, unidad principal 200W, horno de grafito 4KW.
